लेजर कोर व्यासको आकारले प्रसारण हानि र प्रकाशको ऊर्जा घनत्व वितरणलाई असर गर्नेछ।कोर व्यास को उचित चयन धेरै महत्त्वपूर्ण छ।अत्यधिक कोर व्यासले लेजर ट्रान्समिसनमा मोड विरूपण र स्क्याटरिङ निम्त्याउँछ, बीमको गुणस्तर र फोकस गर्ने शुद्धतालाई असर गर्छ।धेरै सानो कोर व्यास कारण हुनेछ एकल-मोड फाइबरको अप्टिकल पावर घनत्वको सममिति खराब हुन्छ, जुन उच्च-शक्ति लेजरको प्रसारणको लागि अनुकूल छैन।
1. सानो कोर व्यास लेजरहरूको फाइदा र अनुप्रयोगहरू (<100um)
उच्च प्रतिबिम्बित सामग्री: एल्युमिनियम, तामा, स्टेनलेस स्टील, निकल, मोलिब्डेनम, आदि;
(1)उच्च प्रतिबिम्बित सामग्री एक सानो कोर व्यास लेजर छनोट गर्न आवश्यक छ।उच्च शक्ति घनत्व लेजर बीम द्रुत रूपमा तरल वा वाष्पीकृत स्थितिमा सामग्रीलाई तताउन प्रयोग गरिन्छ, जसले सामग्रीको लेजर अवशोषण दर सुधार गर्दछ र कुशल र छिटो प्रशोधन प्राप्त गर्दछ।ठूलो कोर व्यास भएको लेजर छनौट गर्दा सजिलै उच्च प्रतिबिम्ब हुन सक्छ।, भर्चुअल वेल्डिंग र लेजर को जलाउन को लागी अग्रणी;
क्र्याक-संवेदनशील सामग्री: निकल, निकल प्लेटेड तामा, एल्युमिनियम, स्टेनलेस स्टील, टाइटेनियम मिश्र धातु, आदि।
यो सामग्री सामान्यतया गर्मी-प्रभावित क्षेत्र र एक सानो पिघल पूल को सख्त नियन्त्रण आवश्यक छ, त्यसैले यो एक सानो कोर व्यास लेजर छनोट गर्न अधिक उपयुक्त छ;
उच्च गति लेजर प्रशोधन:
(3)गहिरो प्रवेश वेल्डिंगलाई उच्च-गति लेजर प्रशोधन चाहिन्छ, र यो सुनिश्चित गर्न उच्च ऊर्जा घनत्व भएको लेजर छनोट गर्न आवश्यक छ कि लाइन ऊर्जा उच्च गतिमा सामग्री पग्लन पर्याप्त छ, विशेष गरी ल्याप वेल्डिंग, प्रवेश वेल्डिंग, इत्यादिका लागि। उच्च प्रवेश गहिराई आवश्यक छ।यो उपयुक्त सानो कोर व्यास लेजर छनोट गर्न राम्रो छ।
2. ठूलो कोर व्यास लेजरहरूको फाइदा र अनुप्रयोगहरू (>100um)
ठूलो कोर व्यास र ठूलो स्थान, ठूलो तातो कभरेज क्षेत्र, फराकिलो कार्य क्षेत्र, र सामग्रीको सतहको मात्र माइक्रो-पिघलने प्राप्त गरिन्छ, जुन लेजर क्ल्याडिङ, लेजर रिमेल्टिङ, लेजर एनिलिङ, लेजर हार्डनिङ, इत्यादिका लागि धेरै उपयुक्त छ। यी क्षेत्रहरूमा, ठूलो प्रकाश स्थान भनेको उच्च उत्पादन दक्षता र कम दोषहरू (थर्मल प्रवाहकीय वेल्डिंगमा लगभग कुनै दोषहरू छैनन्)।
वेल्डिङको सन्दर्भमा, ठूलो स्थान मुख्यतया कम्पोजिट वेल्डिंगको लागि प्रयोग गरिन्छ, जुन सानो कोर व्यास लेजरको साथ कम्पाउन्डिङको लागि प्रयोग गरिन्छ: ठूलो स्थानले सामग्रीको सतहलाई थोरै पग्लन्छ, ठोसबाट तरलमा रूपान्तरण गर्दछ, जसले अवशोषण दरमा ठूलो सुधार गर्दछ। सामग्रीको लेजरमा, र त्यसपछि सानो कोर प्रयोग गर्दछ यस प्रक्रियामा, ठूलो स्थानको पूर्व तताउने, पोस्ट-प्रोसेसिङ, र पग्लिएको पोखरीलाई दिइएको ठूलो तापमान ढाँचाको कारणले गर्दा, सामग्रीमा क्र्याक दोषहरू हुने सम्भावना हुँदैन। द्रुत ताप र द्रुत शीतलन द्वारा।यसले वेल्डको उपस्थितिलाई चिल्लो बनाउन सक्छ र एकल लेजर समाधान भन्दा कम स्प्याटर प्राप्त गर्न सक्छ।
पोस्ट समय: Sep-04-2023
